高純金屬材料，是按照金屬材質中，所摻雜的雜質來計算。通常金屬材料要達到百萬分之幾。通常碳元素不會計入金屬雜質之中，測試的方法一般是利用減量法來進行衡量，這種方法主要還是用來測量金屬材料的雜質成分。

高純金屬成分分析要求檢測多至70種，少則十幾種的金屬元素檢測。只有真正的檢測了材料中的雜質元素和間隙元素才能真正的測試出金屬材料的具體純度。在高純金屬中要控制的主要雜質包括: 堿金屬、堿土金屬、過渡族金屬、放射性金屬(U , Th)。例如對于高純鈷, 一般要求堿金屬、堿土金屬、過渡族金屬雜質單

元素含量小于1×10- 4% ,放射性雜質元素的單元素含量小于 1×10- 7 % , 間隙元素含量小于幾十(10-4%)。

而高純金屬靶材則主要應用于電子元器件，濺射靶材是物理氣體相沉積技術的一種，由靶胚，背板以及部分結構組成。濺射靶材需要在專用的機器內完成。要求環(huán)境為高壓真空。具有良好的導電和導熱性能。